यूवी लैंप – सिरेमिक बेस SK15

Thu, 18 Jun 2026 08:08:37 +0800

फर्श पर, ऊष्मा-संवेदनशील कपड़ों पर प्रिंटिंग करना हमेशा से ही एक चुनौती रहा है। पारंपरिक यूवी सिस्टम, सब्सट्रेट में अत्यधिक ऊष्मा पैदा करते हैं; जिसके कारण कपड़ों में सिकुड़न, रंग में परिवर्तन, एवं आकार में विकृति हो जाती है। हमने ठीक इसी समस्या को दूर करने हेतु SK15 नामक यूवी लैंप विकसित किया। यह लैंप, कपड़ों के तापमान को कम रखने में मदद करता है, जबकि स्याही तेजी से सूख जाती है।

SK15 की विशेषताएँ
SK15, उच्च-दबाव वाले पारा-वाष्प लैंप पर काम करता है; इसका सिरेमिक आधार, ऊष्मा को संभालने में मदद करता है, एवं इसकी डायइलेक्ट्रिक क्षमता भी उत्कृष्ट है। इसका स्पेक्ट्रल आउटपुट, फोटोइनिशिएटरों के अवशोषण बैंडों के अनुरूप है; 365 नैनोमीटर पर मजबूत विकिरण होता है, एवं UVA विकिरण भी संतुलित है। इससे सतही एवं आंतरिक स्तर पर भी स्याही तेजी से सूख जाती है। सब्सट्रेट पर विकिरण की मात्रा 1200 मिलीवाट/सेमी² तक होती है; एक ही बार में 500–800 मिलीजूल/सेमी² ऊर्जा प्राप्त होती है। यह मात्रा, पतली परतों पर लगी सामान्य यूवी स्याहियों को पूरी तरह से सूखने में पर्याप्त है।

SK15 on UV Curing Pure

यूवी लैंप – सिरेमिक बेस SK15