На эллиптических прессах модели KTK ритм запуска и остановки не является вариантом выбора – это неизбежная часть процесса работы оборудования. Каждая остановка заставляет УФ-систему снова стабилизироваться, и если лампа не может мгновенно вернуться в состояние рабочей готовности, это приводит к недостаточной степени отверждения материала, проблемам с адгезией и необходимости переработки продукции. Поэтому мы разработали лампу с высокой мощностью, способную работать в соответствии с этим циклом работы, чтобы процесс отверждения оставался стабильным даже при возникающих перерывах в работе пресса.
Что действительно важно для процесса отверждения Процесс отверждения зависит от спектра излучения, пиковой интенсивности излучения и плотности энергии, поступающей на поверхность материала. Мы настраиваем лампу так, чтобы её излучение соответствовало спектру излучения ртути, который соответствует спектру поглощения фотоинициаторами. Затем мы используем отражатель для обеспечения равномерного распределения излучения по всей поверхности материала. Пиковая интенсивность излучения поддерживается на уровне, соответствующем ширине печатного элемента. Система настроена так, чтобы после каждой остановки обеспечиваться стабильная мощность излучения. Срок службы лампы определяется уровнем её мощности, а не временем эксплуатации; снижение мощности на 10–15% может привести к тому, что процесс отверждения будет недостаточным.
На эллиптических прессах модели KTK необходима лампа, которая сможет работать в условиях частых запусков и остановок без снижения качества отверждения. Дизайн электродов и схема зажигания минимизируют колебания мощности излучения, благодаря чему первый лист после перерыва отверждается так же хорошо, как и сто первый. Это позволяет снизить количество бракованных изделий и обеспечить стабильное качество печати в течение всего времени работы оборудования. Потребление энергии контролируется путем соответствия мощности излучения рабочему циклу пресса, а не путем постоянной работы лампы на полной мощности.
Вот ключевые параметры, которые обеспечивают стабильную работу лампы. Она оптимизирована для частого использования в процессах УФ-отверждения, а не для общей дезинфекции. Мощность лампы настраивается с учетом конкретного расстояния между дугой и поверхностью материала; изменение этого расстояния влияет на интенсивность излучения и время отверждения. Лампа должна использоваться вместе с совместимым источником питания и системой управления затвором. Чистота отражателя также имеет решающее значение: пыль и остатки краски могут искажать распределение излучения и снижать плотность энергии, которая достигает поверхности материала.